【康沃真空網】用真空泵將真空室壓力抽至2×10-3Pa，然后將旋轉靶臺的某一靶面轉為水平，以便避開主離子源的轟擊。將高純氬通入主離子源，待放電正常后將離子束引出。打開擋板，離子束轟擊旋轉著的基片架上的基片，  1進行濺射清洗。清洗時間為6rrun，真空室壓力為2×10-2待束流穩定后將銅靶轉至與水平面呈450的位置，打開擋板，銅就被濺射到基片上，鍍制一定時間后，關閉副離子源，合上擋板，單層銅顆粒膜的鍍制便完成了。鍍制復合膜時，可再將石英靶旋轉到水平面呈454的位置，重復上述操作。交替一次為一個周期，采用不同的周期數便可得到不同厚度的薄膜。
　　鍍制的薄膜樣品為Cu/Sioz0為了使電鏡樣品的組織結構與具有反常光吸收特性的光學樣品完全一致，都先在基片上鍍制石英膜層，然后再鍍制銅膜，以便于透射電鏡觀測時取樣。共鍍了兩種樣品。各層鍍制的時間分別為：1號樣品S0210min，Cu30s；2號樣品Si0210min，Cu 40s。