此種檢漏方法適用于對出氣和漏氣量都不大的小型器件進行檢漏，其特點是靈敏度高（當正確使用這種方法時可以使檢漏靈敏度高出儀器靈敏度幾個數量級）。具體檢漏系統可參考圖13-44。
 

累積法的檢漏過程是：將儀器正常運轉并將被檢件抽成真空，關閥門S2使被檢件及檢漏儀與輔助系統隔離，打開檢漏儀的節流閥，在被檢件外面加上氦罩，關上檢漏儀本身的高真空閥門（即Sc=0），就是說將檢漏儀的質譜室與被檢件均停止抽氣，此時如果被檢件有一個漏率為q的漏孔，在△t時間后，輸出儀表指示會變化到（假定漏孔是分子流漏孔）如式13-93，z*小可檢漏率如式13-94。

式中  ∑Vi——被檢件及系鯇有關部分的體積之積；

Qmin——檢漏儀的z*小可檢漏率；

Sco——與Qmin相對應的離子源處的抽速。

可見△t越長，∑Vi越小，檢漏靈敏度就越高。

但是，并不是隨著△t的增加檢漏靈敏度可無限提高，因為停止抽氣之后，由于出氣與漏氣等原因，質譜室的壓力是會升高的，當超過工作壓力時，會使檢漏無法進行。此外，在累積過程中儀器的本底與本底噪聲也可能變大。