1．真空和表面物理研究

對于通常的真空研究，真空分析質譜計的主要用途是分析真空系統內的殘余氣體。而對表面研究來說，目前已逐步將真空質譜計和低能電子衍射儀、俄歇電子譜儀、二次離子質譜計、化學分析電子譜儀和場致發射顯微鏡等儀器聯合使用，用來研究低壓力下的真空物理過程。通常在10 -9Pa以至更低的壓力下進行分壓力測量。由于采用的真空系統多數為無油或少油的真空泵，所以一般并不要求質譜計有很寬的質量范圍。
 

2．專用器件（如電子顯微鏡、X射線管、陰極射線管和大型超高頻電真空器件）的殘氣分析

在這一類應用中，不像表面物理研究那樣，需要檢測那么低的分壓力，而希望儀器具有較寬的工作質量范圍，至少具有能檢測真空泵油的裂解物的能力。

3．薄膜工藝

制備薄膜時，用真空分析器控制其工藝過程是必要的。在蒸發工藝中，主要是減少殘氣氣氛以防止氧化；在濺射工藝中則重視所充氣體純度，如拉制氬和氧的雜質含量。