濺射鍍膜技術在納米半導體薄膜的制備領域已經得到廣泛應用。較為典型的濺射技術有直流磁控濺射、射頻磁控濺射、離子束濺射以及電子回旋共振等離子體增加濺射等技術。已利用磁控濺射技術制備出不同調制波長的SiC/W納米多層膜，制備了CaAs/SiO2顆粒鑲嵌薄膜，利用射頻磁控濺射技術成功地制備了含納米顆粒的二氧化硅薄膜，以及鑲嵌于介質中的Ⅲ～V族納米半導體薄膜。