用分子沉技術獲得10^-1lPa極高真空:系統運轉程序
發布時間:2019-05-07 19:19:39 | 人感興趣 | 評分:3 | 收藏:
在實驗工作中得到了一套運轉該系統的z*佳程序。s*先,系統要進行預處理,郎先用干燥氮氣“沖洗”系統,然后進行低真空“浸泡”。系統烘烤溫度約為250℃,時間約36h。在系統整體烘烤時,啟動主擴散泵上的氟里昂障板,并對升華鈦泵和測量規管進行徹底去氣。在烘烤過程中,當系統的壓力降低到10^-4Pa時,開始間斷地對鈦泵及規管去氣,直到系統完全冷卻下來時為止。當泵統的壓力降低到10^-9Pa時,停止去氣。系統的冷凍過程必須按照從高壓力到低壓力這樣一個程序進行,z*后冷凍極高真空室。在冷凍過程中應注意防止“冷漏”現象的出現。應先啟動冷凍鈦升華阱,再啟動冷凍鈦升華泵,以形成分子沉環境。兩者加熱功率分別為1400W和600W。每次的工作時間為10min。大約工作3—4次就足夠了。要注意消除蒸鈦過程中鈦膜解吸放出的甲烷氣體,否則不易得到更低的壓力。
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