加工質量和加工效率是離了束刻蝕工藝的主要問題。加工效率以刻蝕速率為標志，加工質量則涉及到圖形輪廓、刻蝕精度、均勻性、重復性和表面損傷等問題。它們既取決于刻蝕設備（特別是離子源）的研制水平和掩膜技術，又取決于工作參數的選擇和樣品材料的性質。
　　
　　刻蝕速率
　　
　　刻蝕速率是以單位時間內刻蝕的深度表示的，它與濺射率、到達表面的離子通量密度及材料的原子密度有關。
　　
　　刻蝕速率與濺射率成正比。濺射率與入射離子的種類、能量、入射角度、靶材的種類、晶格結構、表面狀態、升華熱、溫度以及殘余氣體的組分有關。離子束刻蝕通常用的入射離子能量為300eV～2000eV。入射離子的能量增大則刻蝕速度增大，但表面損傷也增大。
　　
　　刻蝕速率與束流密度成線性關系，是指束流密度和離子能量較低、濺射率不隨束流密度變化而言的。束流密度過高，可能破壞表面的某些物理化學狀態，使濺射過程復雜化，從而使刻蝕速率偏離線性關系。
　　
　　刻蝕速率與靶材的原子的密集程度成反比，即在相同的濺射率下，靶材密度越高，原子量越小，刻蝕速率就越低。表10-38給出了換算成束流密度為1mA/C㎡的氬離子束垂直入射時，各種材料的刻蝕速率實驗值。表10-39給出了離子垂直入射材料的刻蝕速率。