離子束刻蝕設備一般采取臥式結構（也有立式結構）。臥式結構離子束水平方向噴射，刻蝕的濺射物大部分落在真空室底部，能減少濺射材料的重新沉積。立式結構相反，刻蝕質量難以保證。

　　刻蝕設備的真空室一般采用圓筒形結構，用1Cr18Ni9Ti不銹鋼焊接而成。z*好是在兩邊都開門以便裝卸工件、檢修和清洗離子源和快門等，關在適當位置設置觀察窗以便觀察刻蝕進行的情況。大門為蝶形封頭或平面形，開啟與關閉應輕便靈活。真空室內壁應拋光，內表面光滑，便于清洗真空室。