根據分子束外延設備對真空的要求，需達到10-8Pa的超高真空環境，圖10-36中設備真空系統組成如下：
　　
　　1．前級真空排氣系統
　　
　　前級真空排氣系統是由兩個分子篩吸附泵對該設備整機排氣，從大氣開始排氣抽到離子泵開始啟動(約10-1Pa)，同時兼對高能電子衍射儀的五萬伏電子槍進行排氣的前級真空排氣系統。
　　
　　前級真空排氣系統是由兩個各裝5kg分子篩（13x和5A各半）的內冷式吸附泵，一個高壓力計，一個放氣閥，三個可烘烤的金屬超高真空閥（其中一個為總閥）以及真空管道組成的。
　　
　　分子篩對氣體的吸附屬于物理吸附，過程是可逆的，低溫時大量吸氣，當溫度回升時，又會部分甚至全部放出。此時泵內壓力又升高甚至有很大壓力，為了安全，在泵的抽氣口管道上設置了一個安全閥，當泵內壓力大于一個大氣壓力時則自動打開放氣。當然也可作成一個簡單的帶錐度的橡皮塞子來代替安全閥。但對塞子的位置設計時要特別注意不致使液氮把橡皮塞冷凍而硬化，致使產生漏氣的問題。排氣方法采用二級抽氣，即先用一個分子篩泵由大氣開始排氣約3min—5min后，再用另一個分子篩泵繼續排氣。
　　
　　2．清潔的超高真空主排氣系統
　　
　　超高真空排氣系統采用三極濺射離子泵作為輔助泵，鈦升華泵作為主泵而獲得超高真空10-8Pa。