我國真空鍍膜設備研制始于20世紀50年代，當時研制了各種蒸發式真空鍍膜設備，滿足了光學事業發展需要。進入上世紀70年代以后，由于國民經濟各種領域的需求，各類真空鍍膜設備得到了長足的發展。目前各類鍍膜設備基本齊全，種類繁多，滿足了各行業的需要。真空鍍膜設備主要類型有真空蒸發鍍膜設備、磁控濺射鍍膜設備、離子鍍膜設備、化學氣相沉積鍍膜設備等。

　　各類鍍膜設備主要性能見表10-32～表10-35。