真空濺射鍍膜設備概述
發布時間:2019-05-07 21:31:26 | 人感興趣 | 評分:3 | 收藏:
本標準適用于壓力在1×10-4Pa—5×10-1Pa范圍的真空濺射鍍膜設備(以下簡稱設備)。
(1)型號與基本參數
設備的型號應符合JB/T7673_95的規定。設備的基本參數應符合表10-29的規定。
(2)極限壓力
①試驗條件:
a.鍍膜室內為空載(即不放被鍍物品);
b.真空測量規管應裝于鍍膜室靠近排氣口位置上;
c.允許在抽氣過程中用設備本身配有的加熱或轟擊裝置對鍍膜室進行除氣。
②測試方法:按“2.真空鍍膜設備通用條件”中的此項參數測試方法。
(3)鍍膜室恢復真空抽氣時間
①試驗條件:同極限壓力測試。
②測試方法:按“2.真空鍍膜設備通用條件”中的此項參數測試方法。
(4)升壓率
①試驗條件:同極限壓力測試。
②測試方法:按“2.真空鍍膜設備通用條件”中的此項參數試驗方法。
(5)濺射電流的變化率
設備在鍍膜過程中,陰極穩定工作后,測得濺射電流在3min范圍內(若鍍膜過程少于3min,則在整個鍍膜過程內)的變化值,并按下式計算變化率
(6)測量用儀表設備
①測量極限壓力、鍍膜室恢復真空抽氣時間、升壓率所使用的真空計應為設備本身配套者,并應在有效期限內。
②測量濺射電流的變化率所用的電流表應為設備本身配套者,并應在有效期限內。
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