真空鍍膜工藝中，基片表面的潔凈度直接影響著鍍層的牢固度。基片表面的污染來源主要有：
　　
　　①零件在加工、傳輸、包裝過程中及放置時所粘附的各種粉塵;
　　
　　②零件在加工、儲運過程中粘附的潤滑油、機油、拋光膏及油脂、汗漬等污物;
　　
　　③零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;
　　
　　④零件表面吸收和吸附的氣體。這些污染物基本上均可采用去油或化學清洗方法將其去掉。
　　
　　實驗室及工業上常用的基片清洗方法見表15-12。幾種常用的鍍前處理工藝過程及配方見表15-13。