在真空氛圍中，荷能粒子或粒子束入射到固體表面（靶）上，使靶表層原子獲得部分能量，當其動能超過周圍原子形成的勢壘(對于金屬是5eV—lOeV)時，這種原子由從晶格陣點中被碰出來，進入真空中，這種現象謂之濺射。由于離子易于被電磁場加速或偏轉，故真空濺射鍍均選擇離子束轟擊靶材．使其原子被濺射出來沉積到基片上形成薄膜。每個離子濺射產額不僅與入射離子能量、入射角、離子質量有關，同時還與靶材種類、原子序數、靶面原子結合狀態以及結晶取向有關。一般產額為0.1—10(原子離子)，大部原子能量小于20eV，并且為中性據多。
　　
　　原子濺射產額與入射離子能量有關，只有離子能量超過濺射閾值能量時才能發生濺射。當離子能量超過閾值后，隨著離子能量增加，在150eV以前，濺射產額與離子能量平方成正比；在150eV—1keV范圍與離子能量成正比，在1keV～10keV范圍內基本不變。當用惰性氣體氬離子及氖離子轟擊靶材時，由于能量不同，濺射產額亦不同。
　　
　　表10-8給出了500eV的離子濺射產額。
　　
　　各種濺射方法鍍膜原理及特點由表10-9給出。