圖9-13是分子束外延設備真空系統原理圖。真空室由工作室、噴射爐室、樣品預備室成。工作室極限真空為1×10^-8Pa，外延時的工作壓力為1×10^-6Pa。主泵為抽速6×10^3L/s的濺射離子泵一鈦升華泵機組，其極限真空為5×10^-10Pa。

　　
　　為了保證工作室的工作壓力，噴射爐室裝有抽速1000L/s的濺射離子泵一鈦升華泵機組，用以排走噴射爐產生的氣體。
　　
　　工作室不宜經常暴露于大氣，為此，設備有傳送樣品的預備室，該室的真空度為10-6Pa。
　　
　　另外，在工作室電子槍部位設有抽速25L/s的濺射離子泵，可以排走電子衍射儀電子槍工作時放出來的氣體。
　　
　　真空室粗抽用了三只分子篩泵，三級抽氣。所用的分子篩量分別是1.2kg、1.5kg、2.2kg。如果沒有液氮，可以用機械泵一分子篩阱抽氣。