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電子工業(yè)純水處理設備運行中的維護方法是什么?
發(fā)布時間:2021-05-20 20:34:45 | 人感興趣 | 評分:3 | 收藏:
   在電子工業(yè)純水處理設備的運行中,我們不僅要知道電子工業(yè)純水處理設備怎么使用,還要知道怎樣對設備進行運行維護,這樣才能使電子工業(yè)純水處理設備使用的時間更長,那么電子工業(yè)純水處理設備運行中的維護方法是什么呢?
1、防止細菌滋生:針對細菌滋生的問題,可以在超濾系統(tǒng)前端投加次氯酸鈉藥劑,在超濾系統(tǒng)中殺死細菌,并在出水中留用余氯,抑制細菌滋生,也可以在原水中投加非氧化性殺菌劑以殺死細菌。但水中留用的余氯會損害反滲透膜,所以還需要在反滲透膜前端投加還原劑以消除余氯。
2、鈣、鎂等離子結垢:針對鈣、鎂等離子結垢的問題,可以在反滲透前端投加阻垢劑,阻垢劑和還原劑均需從專業(yè)藥劑廠家購買,阻垢劑、還原劑的濃度根據(jù)進水水質進行調(diào)節(jié)。
3、化學清洗:在反滲透膜運行一段時間后,膜內(nèi)會滋生細菌以及結垢,影響反滲透膜的產(chǎn)水量和脫鹽率,所以定期需要對反滲透膜進行化學清洗。化學清洗包括堿洗和酸洗,堿洗的作用是去除反滲透膜中的細菌等有機污染,酸洗的作用是去除反滲透膜中的無機污染和金屬氧化物。每次堿洗和酸洗的配藥濃度約為2.5%,堿洗劑和酸洗劑均需從專業(yè)藥劑廠家購買。對于重度污染的膜需要堿液和酸液的反復清洗,將反滲透中污染物質去除。藥劑在清洗過程中采用沖擊加浸泡的循環(huán)方式,通過加藥泵向反滲透中加藥1 h后停止運行加藥泵,關閉化學清洗的加藥和出藥閥門,將藥劑留在反滲透膜內(nèi)浸泡,浸泡2 h后,打開閥門,啟動泵,循環(huán)沖擊和浸泡。在堿洗過程中,因為殺死微生物會產(chǎn)生大量泡沫,應及時清理,避免造成泡沫飛濺。
4、低壓沖洗:在線低壓沖洗是將濃水排水閥門、產(chǎn)水排水閥門及低壓沖洗進水閥門同時打開,通過啟動低壓沖洗泵,使水流在反滲透膜管內(nèi)產(chǎn)生紊流,沖洗膜表面的鹽分和污染物,再通過排放水閥門排走。低壓沖洗使用反滲透的產(chǎn)水作為沖洗水,避免產(chǎn)生二次污染。低壓沖洗在系統(tǒng)中被設置為常規(guī)操作,在開機和停機的過程中進行1次,可設置成每d的例行操作,定期進行沖洗。低壓沖洗的壓力、流量和時間都對沖洗效果有影響。流量一般大于運行流量,應避免流量過大,使鹽分擁堵在膜內(nèi)。運行壓力一般以產(chǎn)水為準,不需要施加過大壓力。操作時間為5~10 min。

   上述內(nèi)容就是對電子工業(yè)純水處理設備運行中的維護方法是什么的介紹了,在使用過程中一定不要忽視了對設備的維護。 

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作者: 來源: 編輯:baggio打印此文】【加入收藏】【字體:
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