【正文】 塑料真空鍍膜設備的發展相當快，隨著生產率的提高，生產費用大大降低，已經為真空鍍膜產品的普遍使用鋪平了道路。以卷繞式真空鍍膜機為例，剛開發時可鍍的薄膜基材寬度是0mm，目前已達2253mm�；�材卷筒的卷徑是1000mm，卷繞速度750m/min。自動裝卸的半連續卷繞式真空鍍膜機鍍膜時間占整個周期的75%，輔助操作時間只占25%。效率更高的從大氣到大氣的卷繞式真空鍍膜機已于1977年出售。隨著計測技術、控制技術的進步和電子計算機的應用，卷繞式真空鍍膜機正向著高度自動化和高度可靠性的方向發展。

    卷繞式真空鍍膜機能夠沉積的鍍膜層厚度范圍為0.01-0.2μm，可以在這個范圍內選擇，有的還可以鍍多層膜，滿足多種需要。日本專利提出沉積兩種不同鍍膜材料的卷繞式蒸鍍裝置。該裝置的真空室(6)分為上室(7)，左下室(8)和右下室(9)。蒸鍍時，兩組蒸發源(19、23)蒸發的鍍膜材料(21、25)分別沉積在塑料薄膜(11)上，在塑料薄膜沒有蒸鍍的一側，裝上輝光放電發生器(、16)。發生器產生的輝光放電氣體能防止塑料薄膜起皺。使用這套裝置可以在極薄的塑料薄膜上鍍上無折皺的多層膜，用于制磁帶和薄膜太陽能電池等。該裝置示意圖見圖1

圖1改進的卷繞式蒸鍍裝置

  

    近年來，高速低溫濺射法發展很快，使高熔點金屬如鉻、鈦、鎢、鉬等的沉積成膜成為可能。鍍膜室直徑1400mm，高2200mm的大型鐘罩式濺射鍍膜機和長mm，寬7.6mm的大型串列式濺射鍍膜機已投入使用。最近，日本專利提出一種卷繞式濺射鍍膜機，該機可鍍兩種不向的鍍膜材料，并在濺射區和第二濺射區之間裝溫度控制裝置()，加強對基材的冷卻，保證在鍍膜層較厚和沉積速度較快的情況下，基材不會發生卷縮和變形。該裝置示意圖見圖1。真空室(1)裝有濺射靶(4a,4b)和陽極(14a,14b)，兩個靶分別與直流電源(5a,5b)相接，對塑料薄膜(8)進行濺射。輥筒(11a,11b,11c))有各自的冷卻溫度。