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機械設備
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它表征儀器分辨M和M+AM兩個相鄰峰的能力,通常用M/AM表示。由于作為殘氣分析的真空質譜計不需要很高分辨本領,所以,通常在10%或50%峰高處確定參考基線來測量AMo特殊使用條件下,可在5%或1%峰高處確定參考基線來測量...
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1.質譜儀由分析場將離子束分離成不同質荷比的組分,并在整個立體角上同時記錄各種質荷比離子的儀器。2.質譜計借助于改變分析場的工作參數來記錄質譜的儀器,即,質譜的記錄利用了時間因素。此外,這類儀器的質譜記錄...
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分壓力靈敏度是衡量質譜計探頭部分檢測靈敏度的指標。與熱陰極電離規相似,分壓力靈敏度常數定義為式△AI+——被檢測的某一種氣體組分離子流的變化量[A];APp——離子源內該種組分的分壓力變化...
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質譜計在一定的靈敏度和分辨本領條件下,能夠工作的質量數上限和下限之間的范圍。質量數下限通常用真空系統殘余氣體峰(如原子態氫離子峰)質量數為1來確定。上限可以用氣體相對分子量接近上限的氣體測定(如選用氪、...
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z*小可檢分壓力反映質譜計探頭的分壓力靈敏度和測量儀器檢測離子流信號的綜合指標。對于規定的氣體的z*小可檢分壓力是檢測一個等于兩倍噪聲的離子流輸出信號(即信噪比為2)。
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質譜計在不同應用條件下允許工作的z*大全壓力極限。一般這項指標是對質量數28的氮峰測定的。在定性分析中,z*大工作壓力通常定義為,在該壓力下儀器的分壓靈敏度下降到線性值的一半,或定義為J十-p曲線中z*大J+值對...
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真空系統中漏氣流量的平衡表示式如下式中p-系統達到的壓力;Po-真空泵的極限壓力;S-系統的有效抽速;Qo-由系統外部流向系統內部的總漏率;EQi——虛漏所形成的總“漏”率。所謂虛漏,其來源是多...
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表征儀器對氣體混合物中所能測量的某一組分的z*小值。通常用Pz*小/P全表示,這里,Pz*小為氣體混合物中某一組分的z*小分壓力,P全為氣體混合物的全壓力。
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對于大多數真空系統、容器、器件來說,如果真空抽不上去,s*先應判斷漏氣是不是主要因素,然后確定是否需要進行檢漏。真空檢漏就是用一定的手段將示漏物質加到被檢工件的器壁的某一側,用儀器或某一方法在另一側懷疑...
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真空系統或真空容器的漏氣是絕對的,不渦氣是相對的。真空檢漏技術中所指的“漏”的概念,是和z*大允許漏率的概念聯系在一起的。對于動態真空系統來說,只要真空系統的平衡壓力能達到所要求的真空度,這時...
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真空容器或器件中的漏孔形式大致有以下幾種:①細圓管狀;②斷面復雜的管狀;③隙縫;④連在一起的多孑L組織;⑤由細管或隙縫把空穴連接起來的組合結構。圖13-1給出幾種漏孔的實例。
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真空技術中所指的漏孔由于尺寸微小、形狀復雜,無法用幾何尺寸來表示其大小,所以一般用等效流導或者漏氣速率(簡稱“漏率”)來表示其大小。用漏率來表示漏孔的大小時,如果不加特別說明,則是指在標準條件...
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真空技術中所講的漏孔是指當封閉的容器內部與外部的氣體壓力或濃度不同時,可以使氣體由器壁的一側泄漏到另一側去的小孔、缺陷或隙縫以及滲透元件或漏氣裝置。z*容易產生漏孔的情況是:各種焊接和封接存在缺陷;器壁...
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氣體通過圓管狀漏孔的平均速度。當漏孔直徑矗d=5μm,長度L=0.5cm,p=100kPa時,QA≈l0^-3Pa·L/s,=70cm/s,因此氣體通過該漏孔的時間近似等于7×10^-3S。由此可見,檢漏時氣體通過漏孔的時間一般來...
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漏率也叫漏氣速率,系指處于高壓力或高濃度下的氣體,在單位時間內通過漏孔流向低氣壓端(或低濃度端)的氣體量。表示漏率單位的量綱是[壓力]·[體積]/[時間]。常用的漏率單位是Pa·L/s。
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