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真空鍍膜中，鍍膜機常用的蒸發源有電阻式加熱蒸發源、電子束式加熱蒸發源、空心熱陰極等離子束蒸發源、感應式加熱蒸發源。隨著薄膜技術的廣泛應用，不但對膜的種類要求繁多，而且對膜的質量要求...
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電阻式加熱方式常用蒸發源材料有鎢、鉭、鋁等。其性能見表10-4。表10-4蒸發源所用金屬材料的性質
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電阻加熱、高頻加熱、電子束加熱方式各有特點，其性能比較見表10-3。
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在真空獲得和真空測量技術中，經常遇到各種工藝問題。這些工藝問題涉及面很廣，除一般的機械加工外，主要有材料及零(部)件的清潔處理，不同材料的焊接、粘結和封接，設備的真空排氣工藝以及吸附劑...
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真空技術中的清潔處理一般指的是真空裝置的結構材料、填裝材料和真空零(部)件的清潔處理。去除或減少污染物將有利于獲得良好真空，增加連接強度和氣密性，提高產品的壽命和可靠性。污染物的幾...
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各種蒸發器材料所適用的蒸發金屬（膜材），其匹配性見表10-5。
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蒸發鍍各種坩堝材料性能見表10-6。
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真空對環境的要求一般包括真空設備對所處實驗室(或車間)的溫度、濕度、空氣中的微粒等周圍環境的要求，和對處于真空狀態或真空中的零件或表面的要求兩個方面。這兩個方面是有密切聯系的。周圍...
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由于電真空結構材料除機械性能和加工性能外，還要滿足其它性能的要求：容易除氣、低的飽和蒸氣壓、一定的化學穩定性、一定的純度和清潔度，要有合適的輻射能力、溫度性質和光學性質等。所以電真...
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1、真空泵主要技術性能(真空度等)達到設計要求或滿足工藝要求附屬設備(冷凝器等)齊全；真空泵設備運轉平穩、聲響正常、無過熱現象、封閉良好.2、旋片式真空泵設備潤滑系統完好且潤滑油質符合...
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真空鍍膜中，鍍膜機常用的蒸發源有電阻式加熱蒸發源、電子束式加熱蒸發源、空心熱陰極等離子束蒸發源、感應式加熱蒸發源。表10-7給出了適于蒸發各種元素的蒸發源材料。
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由濺射現象發展到濺射鍍膜經歷了相當長的發展過程，早在1853年法拉第做氣體放電試驗時，就發現了放電管壁沉積金屬現象，當時只把它作為一種有害現象，研究如何避免。直到1902年Goldsrein才證明了...
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圖10-9給出的是從一個小平面s到與s平面相平行的基片上的蒸發情況。
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卷繞式鍍膜機30年來有了較大的發展，鍍膜產品廣泛用于裝飾、包裝、電容器等領域中，可鍍光學、電學、電磁、導電等多種薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、紙、泡沫塑料及布等。一般...
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真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要。基片進入鍍膜室前均應進行認真的鍍前清潔處理，達到工件去油、去污和脫水的目的。基片表面污染來自零件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵...
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