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真空鍍膜工藝中，基片表面的潔凈度直接影響著鍍層的牢固度。基片表面的污染來源主要有：①零件在加工、傳輸、包裝過程中及放置時所粘附的各種粉塵;②零件在加工、儲運過程中粘附的潤滑油、機油...
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空心陰極離子鍍已廣泛應用于裝飾、工具、模具及其它特種涂層。HCD法利用熱陰極放電產生等離子體束，以空心鉭管作陰極。輔助陽極距陰極較近，兩者作為引燃弧光放電的兩極。HCD槍引燃方式有兩種：...
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空心陰極鍍氮化鈦裝置示意圖如圖10-21所示。主要結構有：鍍膜室其尺寸為620mm×720nun;HCD槍：空心陰極為9mm×1mm×170mm鉭管；槍功率12W;坩堝熔池容積350cm³；烘烤裝置功...
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由于各種污染可以使電真空器件變質，影響使用壽命和可靠性，因而電真空工藝具有特殊性。一般而言，電真空器件所用的金屬材料或零件在經過機械加工后都要進行去油。利用堿性溶液和有機溶劑都可以...
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零件所粘附的油脂分為礦物油、動植物油兩大類。礦物油可用有機溶劑去除;動植物油可用堿溶液化學去除。但實際上兩類油脂經常同時存在，所以在清洗時往往需要先后采用數種不同的溶劑。(1)堿液去...
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溶劑去油后進行浸蝕處理，目的是去除金屬表面的氧化物。經過熱處理的零件，油污已不存在，可直接進行浸蝕處理，以去除退火后的氧化層。浸蝕處理一般在酸性溶液中進行。大多數金屬的氧化物以及金...
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(1)電化學清洗將待清洗的金屬零件放在某種溶液中，并將零件接在電源的正極或負極，另外再用某一材料制作成的極板接電源的另一極，調節電源電壓，獲得一定電流密度，達到去油和去除金屬表面氧化層...
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超聲波清洗的原理是利用它所造成的介質的“空隙現象”，即由超聲波的振動引起清洗介質疏密的變化而達到清洗目的。振動使介質時而稀疏形成瞬時的空隙，時而閉合，閉合時產生的瞬時沖擊...
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1973年日本村山洋研制成了射頻放電離子鍍(RFIP)裝置，其原理圖如圖10-22所示。此裝置真空度為10-1Pa~10-2Pa，蒸鍍物質原子離化度為10%，加熱用的頻率線圈高7cm，用3銅絲繞制，共7圈。射頻源頻率...
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真空電弧離子鍍是由美國Multi-Arc公司和Vac-Tec公司聯合開發的，1981年達到工業實用化階段。電弧離子鍍的原理是基于冷陰極真空弧光放電理論提出的。該理論認為放電過程的電量遷移是借助于場電...
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多弧離子鍍技術的核心是電弧蒸發源，這種新型蒸發源是一種冷陰極電弧放電型自蒸發自離化式固體蒸發源，它與其它傳統離子鍍蒸發源相比具有以下顯著特點：①沉積速率高，對TiN來說可達100nm/s～100...
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基于離子鍍沉積速度快，鍍材廣泛，繞射性好，鍍層質密，附著性好等特點，其應用日趨廣泛，將來有可能代替濕式電鍍。離子鍍應用領域見表10-14。
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(1)可伐的清洗①酸洗液配方：硝酸10%，鹽酸10%，去離子水80%。②鉻酸液配方：鉻酐100g，硫酸30mL，去離子水1000mL(此配方用于可伐、無氧銅、鉬去氧化膜)。③清洗過程(以先后為序)：去油后浸入70℃～...
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氬弧焊是氣電焊的一種，它是以氬氣作為保護氣體的電弧焊。由于焊縫受到氬氣的保護，所以焊縫質量比較高，同時又由于熱源集中，所以焊接時的熱影響區小，工件變形小，保證了工件的氣密性和機械強度...
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化學氣相沉積裝置主要包含四部分，即反應室、加熱系統、供反應氣體系統、反應后氣體處理系統。反應室設計時s*要問題是保證薄膜的均勻性。因化學反應在基片上發生，因而還需注意：①應為反應提供...
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