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空間技術對真空環境的要求詳解
真空在航天工業中得到廣泛應用。衛星、飛船、航天飛機等飛行器在空間飛行,除了受到真空環境影響之外,還要受到太陽輻射、各種帶電粒子及溫度的影響。這些因素將造成材料性能的改變,使材料損傷...
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真空鍍膜:離子濺射基本原理
在真空氛圍中,荷能粒子或粒子束入射到固體表面(靶)上,使靶表層原子獲得部分能量,當其動能超過周圍原子形成的勢壘(對于金屬是5eV—lOeV)時,這種原子由從晶格陣點中被碰出來,進入真空中,...
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磁控濺射真空鍍膜工作原理
磁控濺射靶采用靜止電磁場,磁場為曲線形,均勻電場和對數電場則分別用于平面靶和同軸圓柱靶,而s-槍靶介于二者之間。它們的工作原理是相同的,以圖10-11說明如下:電子在電場作用下,加速飛向基片...
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真空環境的有關標準
1.粉塵性質和空氣潔凈度標準(1)粉狀體、煙霧體的定義粉狀體:是粉末或固體顆粒的集合或分散狀態的物質。所謂粉末是指微小的固體顆粒的集合體,而顆粒是指能夠一個一個計數的物質微小部分。煙霧...
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真空環境:潔凈室和空氣凈化的要求
空氣凈化系指向室內或某特定空間送風的除塵凈化,不包括除臭、滅菌和有毒氣體等的凈化處理。對于絕大多數以溫、濕度要求為主的空調系統來說,設置一道粗效過濾器,將大顆粒的灰塵濾掉即可。對有...
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真空設備同軸圓柱形磁控濺射鍍膜
同軸圓柱形磁控濺射靶的結構如圖10-14所示。在濺射裝置中該靶接500V-600V的負電位。基片接地、懸浮或加偏壓。在每個永磁體單元的對稱面上,磁力線平行于靶表面并與電場正交。磁力線與靶表面封...
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真空室矩形平面磁控濺射
矩形平面靶簡圖如圖10-12所示。靶面處于正交的電磁場中,磁場方向與靶面陰極平行,形成環形磁場。真空室通入高純氬氣,使真空室保持10-3Pa—10-2Pa的真空度,在陽極和陰極(靶)加一定的直流...
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電子工藝對真空環境的要求
根據美國潔凈室標準,空氣潔凈度的分級是依據每0.028m^3中的塵埃粒數,那么10000級潔凈室每0.028m^3空氣中含有的0.5um或更大的塵埃粒數少于10000顆。采用絕對過濾層流技術措施和室內套室結構,...
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超高真空系統的烘烤與清洗
由濺射離子泵和鈦升華泵組成的真空系統是目前獲得清潔超高真空的主要抽氣手段,能獲得低于1.3×10^-3Pa的壓力。中小型真空系統以濺射離子泵做主泵,大型真空系統以鈦升華泵做主泵。超高真...
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真空鍍膜:s槍磁控濺射鍍膜
真空鍍膜中,s槍磁控濺射鍍膜不僅具有磁控濺射共同的“低溫”、“高速”的特點,而且由于濺射靶有特殊靶形和冷卻方式,還具有靶材利用率高、膜厚分布均勻、靶功率密度大和...
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圓形平面磁控濺射靶的結構
圓形平面磁控濺射靶的結構如圖10-15所示。圓形平面靶采用螺釘或釬焊方式緊緊固定在由永磁體(包括環形磁鐵和中心磁柱)、水冷套和靶外殼等零件組成的陰極體上。通常,濺射靶接500V—600V負...
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低真空裝置及真空系統的概述
低真空裝置如真空輸送、真空浸漬、真空過濾、真空干燥、真空脫氣(鋼水處理)等要求具有工作壓力高、排氣量大的低真空抽氣機組。這類低真空抽氣機組主泵常用往復式真空泵、油封式真空泵、水蒸...
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油擴散泵真空系統污染與防治
油擴散泵真空系統是使用z*廣泛的真空系統,其獲得真空度范圍為1.3×10-3Pa~1.3×10-5Pa。油擴散泵真空系統構成的各類真空裝置,長期使用后,常見的故障是真空度抽不上去,或真空度抽不...
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真空離子鍍膜原理及種類
真空離子鍍膜于1963年由D.M.Mattox提出并開始實驗。1971年Chamber等發表電子束離子鍍技術,1972年Bunshah報告了反應蒸鍍(ARE)技術,并制作出TiN及Tic超硬膜。同年Moley和Smith將空心陰極技術應...
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真空鍍膜:磁控濺射的特點
①沉積速率大。由于采用高速磁控電極,可以得到很大的離子流,大大地提高了濺射速率和沉積速率。與其它濺射方式相比,磁控濺射生產能力高,產量高,廣泛應用于工業生產中。表10-10給出了平面磁控...
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