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真空膜蒸餾過程中真空度的影響
真空膜中膜兩側的壓力差是膜傳質推動力的一個標志,因此對真空膜蒸餾過程中真空度的影響進行了模擬研究。模型中采用以5.0為一個區間進行分段,對各種不同濃度的鹽水在不同溫度下的飽和蒸汽壓進...
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核電站主回路系統
核電站主回路系統大部分工作在高溫高壓狀態,但也有處于真空狀態運行的,主要是壓力殼夾層、汽輪機冷凝器等。(1)壓力殼夾層現代大型壓力堆的壓力殼都是雙層的,為了增加安全性,近年來國外一些大...
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核電站輔助系統
核電站輔助系統應用的真空技術主要是真空凈化、真空除氣和真空精餾。冷卻劑質量控制系統:水作為壓力堆冷卻劑在主回路高溫高壓和強輻射場中流動,會發生一系列反應,并對材料產生腐蝕作用,所以...
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有關真空環境制備納米材料
納米材料是20世紀80年代中期發展的具有全新結構的材料,是指由極細晶粒組成、特征維度尺寸為1nm—l00nm的單晶體或多晶體。由于極細的晶粒,以及大量處于晶界和晶粒內缺陷中心的原子具有的...
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真空納米半導體薄膜制備
納米半導體薄膜的制備技術很多。理論上任何能夠制備多晶或單晶半導體薄膜的技術都可以用于納米半導體薄膜的制備,但對相應的制備技術提出了更為嚴格的要求:①表面潔凈;②晶粒形狀及粒徑、粒度...
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物理制作:真空蒸發沉積
真空蒸發是制作納米半導體薄膜z*一般的物理方法。該法通常將真空室的極限真空抽到優于10-2Pa,然后采用加熱的方法將被蒸發物質蒸發后沉積在光滑的基片上,得到相應的納米半導體薄膜。真空蒸發...
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濺射沉積制作真空半導體薄膜
濺射鍍膜技術在納米半導體薄膜的制備領域已經得到廣泛應用。較為典型的濺射技術有直流磁控濺射、射頻磁控濺射、離子束濺射以及電子回旋共振等離子體增加濺射等技術。已利用磁控濺射技術制備...
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外延技術制備真空半導體膜
外延技術是一種制備納米半導體薄膜的新技術,采用該技術可以制備出結晶取向與襯底完全一致而且品格結構完整的納米半導體單晶薄膜。典型外延技術有氣相外延(VPE)、液相外延(LPE)和分子束外延(...
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真空納米顆粒銅薄膜制備
采用離子束濺射技術制備銅納米顆粒薄膜。用真空泵將真空室壓力抽至12×10-3Pa然后將旋轉靶臺的某一靶面轉為水平,以便避開主離子源的轟擊。將高純氬通入主離子源,待放電正常后將離子束引...
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真空制備銀納米顆粒與薄膜
制備銀納米粒子的常用方法有物理方法和化學方法。化學方法包括溶膠凝膠法、電鍍法、氧化一還原法、靜電噴涂法。利用化學方法所得到的銀顆粒z*小可達幾納米。實驗簡單、方便,但所得銀顆粒不易...
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真空冷凍干燥方法制備納米粉原理
利用真空冷凍干燥技術制備工業材料納米級超細微粉材料時,根據造粒過程的不同,又可分為噴霧法和沉淀法兩種具體方式。噴霧冷凍干燥法(sprayfreezedrying)的基本原理是:s*先制得具有所期望微粉...
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真空冷凍干燥方法制備納米粉的應用
用真空冷凍干燥法所獲得的氧化物和復合氧化物超細粉末在催化領域得到了特別成功的應用。這種粉料不僅組成偏析小、比表面積大,而且反應活性很高。如為了使鋰能均勻地在Ni0晶格中擴散,一般固相...
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中國真空科技成就獎、青年創新獎評審揭曉
中國真空學會于2014年9月15日在清華大學召開了中國真空科技成就獎和中國真空科技青年創新獎評審會,評審結果如下:一、中國真空科技成就獎獲得者:李言榮電子科技大學李奇志北京中科科儀股份有...
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真空裝置的控制
真空裝置是有關工業生產和科學實驗中的重要機械設備。人們經常要按照一定的要求將真空裝置中的真空泵啟動或停止,將其真空閥門打開或關上,或者使真空裝置中的真空室中的壓力按照預先規定的量...
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真空控制常用名詞匯術語
1、被控制對象要求實現控制的真空裝置或生產過程,稱之為被控制對象。例如真空閥、真空泵、真空鍍膜機、真空熱處理爐等。2、測量裝置測量被控制量變化的裝置。例如:真空計、溫度計、膜厚測量...
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