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機械設備
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由于電真空結構材料除機械性能和加工性能外，還要滿足其它性能的要求：容易除氣、低的飽和蒸氣壓、一定的化學穩定性、一定的純度和清潔度，要有合適的輻射能力、溫度性質和光學性質等。所以電真空工藝具有特殊性，對...
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1、真空泵主要技術性能(真空度等)達到設計要求或滿足工藝要求附屬設備(冷凝器等)齊全；真空泵設備運轉平穩、聲響正常、無過熱現象、封閉良好.2、旋片式真空泵設備潤滑系統完好且潤滑油質符合規定要求并定期進行檢...
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真空鍍膜中，鍍膜機常用的蒸發源有電阻式加熱蒸發源、電子束式加熱蒸發源、空心熱陰極等離子束蒸發源、感應式加熱蒸發源。表10-7給出了適于蒸發各種元素的蒸發源材料。
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由濺射現象發展到濺射鍍膜經歷了相當長的發展過程，早在1853年法拉第做氣體放電試驗時，就發現了放電管壁沉積金屬現象，當時只把它作為一種有害現象，研究如何避免。直到1902年Goldsrein才證明了沉積金屬是正離子轟擊...
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圖10-9給出的是從一個小平面s到與s平面相平行的基片上的蒸發情況。
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卷繞式鍍膜機30年來有了較大的發展，鍍膜產品廣泛用于裝飾、包裝、電容器等領域中，可鍍光學、電學、電磁、導電等多種薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、紙、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量...
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真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要。基片進入鍍膜室前均應進行認真的鍍前清潔處理，達到工件去油、去污和脫水的目的。基片表面污染來自零件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機油、拋光...
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真空在航天工業中得到廣泛應用。衛星、飛船、航天飛機等飛行器在空間飛行，除了受到真空環境影響之外，還要受到太陽輻射、各種帶電粒子及溫度的影響。這些因素將造成材料性能的改變，使材料損傷，儀器失靈，破壞航天器...
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在真空氛圍中，荷能粒子或粒子束入射到固體表面（靶）上，使靶表層原子獲得部分能量，當其動能超過周圍原子形成的勢壘(對于金屬是5eV—lOeV)時，這種原子由從晶格陣點中被碰出來，進入真空中，這種現象謂之濺射。由...
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磁控濺射靶采用靜止電磁場，磁場為曲線形，均勻電場和對數電場則分別用于平面靶和同軸圓柱靶，而s-槍靶介于二者之間。它們的工作原理是相同的，以圖10-11說明如下：電子在電場作用下，加速飛向基片的過程中與氬原子發生...
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1.粉塵性質和空氣潔凈度標準(1)粉狀體、煙霧體的定義粉狀體：是粉末或固體顆粒的集合或分散狀態的物質。所謂粉末是指微小的固體顆粒的集合體，而顆粒是指能夠一個一個計數的物質微小部分。煙霧體：是固體或液體的微...
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空氣凈化系指向室內或某特定空間送風的除塵凈化，不包括除臭、滅菌和有毒氣體等的凈化處理。對于絕大多數以溫、濕度要求為主的空調系統來說，設置一道粗效過濾器，將大顆粒的灰塵濾掉即可。對有一定潔凈度要求，但又...
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同軸圓柱形磁控濺射靶的結構如圖10-14所示。在濺射裝置中該靶接500V-600V的負電位。基片接地、懸浮或加偏壓。在每個永磁體單元的對稱面上，磁力線平行于靶表面并與電場正交。磁力線與靶表面封閉的空間就是束縛電子...
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矩形平面靶簡圖如圖10-12所示。靶面處于正交的電磁場中，磁場方向與靶面陰極平行，形成環形磁場。真空室通入高純氬氣，使真空室保持10-3Pa—10-2Pa的真空度，在陽極和陰極（靶）加一定的直流電壓后，便產生放電。放...
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根據美國潔凈室標準，空氣潔凈度的分級是依據每0.028m^3中的塵埃粒數，那么10000級潔凈室每0.028m^3空氣中含有的0.5um或更大的塵埃粒數少于10000顆。采用絕對過濾層流技術措施和室內套室結構，每0.028m^3塵粒數可少...
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