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機械設備
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由濺射離子泵和鈦升華泵組成的真空系統是目前獲得清潔超高真空的主要抽氣手段，能獲得低于1.3×10^-3Pa的壓力。中小型真空系統以濺射離子泵做主泵，大型真空系統以鈦升華泵做主泵。超高真空系統要求真空室內壁...
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真空鍍膜中,s槍磁控濺射鍍膜不僅具有磁控濺射共同的“低溫”、“高速”的特點，而且由于濺射靶有特殊靶形和冷卻方式，還具有靶材利用率高、膜厚分布均勻、靶功率密度大和易于更換靶材等優點。...
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圓形平面磁控濺射靶的結構如圖10-15所示。圓形平面靶采用螺釘或釬焊方式緊緊固定在由永磁體（包括環形磁鐵和中心磁柱）、水冷套和靶外殼等零件組成的陰極體上。通常，濺射靶接500V—600V負電位，真空室接地，基片...
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低真空裝置如真空輸送、真空浸漬、真空過濾、真空干燥、真空脫氣(鋼水處理)等要求具有工作壓力高、排氣量大的低真空抽氣機組。這類低真空抽氣機組主泵常用往復式真空泵、油封式真空泵、水蒸氣噴射泵、水環泵、羅...
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油擴散泵真空系統是使用z*廣泛的真空系統，其獲得真空度范圍為1.3×10-3Pa～1.3×10-5Pa。油擴散泵真空系統構成的各類真空裝置，長期使用后，常見的故障是真空度抽不上去，或真空度抽不到原來的極限真空水平...
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真空離子鍍膜于1963年由D．M．Mattox提出并開始實驗。1971年Chamber等發表電子束離子鍍技術，1972年Bunshah報告了反應蒸鍍(ARE)技術，并制作出TiN及Tic超硬膜。同年Moley和Smith將空心陰極技術應用于鍍膜。20世紀80年...
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①沉積速率大。由于采用高速磁控電極，可以得到很大的離子流，大大地提高了濺射速率和沉積速率。與其它濺射方式相比，磁控濺射生產能力高，產量高，廣泛應用于工業生產中。表10-10給出了平面磁控濺射的沉積速率。②功...
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真空鍍膜工藝中，基片表面的潔凈度直接影響著鍍層的牢固度。基片表面的污染來源主要有：①零件在加工、傳輸、包裝過程中及放置時所粘附的各種粉塵;②零件在加工、儲運過程中粘附的潤滑油、機油、拋光膏及油脂、汗漬...
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空心陰極離子鍍已廣泛應用于裝飾、工具、模具及其它特種涂層。HCD法利用熱陰極放電產生等離子體束，以空心鉭管作陰極。輔助陽極距陰極較近，兩者作為引燃弧光放電的兩極。HCD槍引燃方式有兩種：其一在鉭管處施加高頻...
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空心陰極鍍氮化鈦裝置示意圖如圖10-21所示。主要結構有：鍍膜室其尺寸為620mm×720nun;HCD槍：空心陰極為9mm×1mm×170mm鉭管；槍功率12W;坩堝熔池容積350cm³；烘烤裝置功率5kW;三維復合運動工件...
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由于各種污染可以使電真空器件變質，影響使用壽命和可靠性，因而電真空工藝具有特殊性。一般而言，電真空器件所用的金屬材料或零件在經過機械加工后都要進行去油。利用堿性溶液和有機溶劑都可以去除金屬表面的油脂和...
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零件所粘附的油脂分為礦物油、動植物油兩大類。礦物油可用有機溶劑去除;動植物油可用堿溶液化學去除。但實際上兩類油脂經常同時存在，所以在清洗時往往需要先后采用數種不同的溶劑。(1)堿液去油當零件浸入堿液時，...
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溶劑去油后進行浸蝕處理，目的是去除金屬表面的氧化物。經過熱處理的零件，油污已不存在，可直接進行浸蝕處理，以去除退火后的氧化層。浸蝕處理一般在酸性溶液中進行。大多數金屬的氧化物以及金屬本身都能與適當濃度...
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(1)電化學清洗將待清洗的金屬零件放在某種溶液中，并將零件接在電源的正極或負極，另外再用某一材料制作成的極板接電源的另一極，調節電源電壓，獲得一定電流密度，達到去油和去除金屬表面氧化層的目的。電解去油的效...
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超聲波清洗的原理是利用它所造成的介質的“空隙現象”，即由超聲波的振動引起清洗介質疏密的變化而達到清洗目的。振動使介質時而稀疏形成瞬時的空隙，時而閉合，閉合時產生的瞬時沖擊壓力可大到幾個大氣壓...
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