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真空系統的設計計算
真空是進行離子束刻蝕的必要條件,它的性能好壞直接影響著整機性能。良好的真空系統取決于合理的真空系統理論設計和計算。通過計算主要解決兩個基本問題:一是根據該設備產生的氣體量、極限真...
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離子束刻蝕設備的離子源電源
離子源電源由陰極、陽極、屏柵極、加速極和中和器電源等五部分組成。其技術指標見表10-37。離子源電源的特點是:①五種電源在主電路上均采用同一類型的變壓器原端可控硅調整的穩壓方案。陰極...
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離子束刻蝕:主機電控系統
離子束刻蝕的主機電控系統由控制變壓器、壓力繼電器、熱繼電器、半導體時間繼電器、中間繼電器、交流接觸器、螺旋式熔斷器、訊響器、開關、插座、信號燈等組成。位于主機機柜中,保證機械泵、...
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離子束刻蝕:快門時間控制器
手電兩用四桿聯動的單葉片結構快門用在LSK-2型、LSK-3型離子束刻蝕設備上。該快門電磁線圈由固定的30V電源驅動。快門動作方向由繼電器J3和J4的觸點進行切換而改變。由于快門的開和關動作要在...
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離子束刻蝕工藝:刻蝕速率
加工質量和加工效率是離了束刻蝕工藝的主要問題。加工效率以刻蝕速率為標志,加工質量則涉及到圖形輪廓、刻蝕精度、均勻性、重復性和表面損傷等問題。它們既取決于刻蝕設備(特別是離子源)的研...
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離子束刻蝕:整機自控系統
離子束刻蝕設備整機自動化是設備發展的方向。LSK-3型機實現了從開機到刻蝕終止全過程的自動化。整機程序自動控制的功能為:對刻蝕全過程14個受控量具有準確控制功能;對6個條件量具有判別、等...
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離子束刻蝕:計算機控制系統
實現工作一維深度加權刻蝕的離子束刻蝕設備,要用計算機控制系統。深度加權的刻蝕深度按照預先給定的曲線分布進行,由于離子束的強度是恒定的,離子源的位置也是固定的,而工件臺相對于離子源作...
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幾何圖形刻蝕的均勻性重復性
整個樣品幾何圖形刻蝕的均勻性和可重復性,主要取決于離子源的性能和刻蝕面的形貌。著先要求離子源的工作參數穩定,特別是束離子能量和束流密度穩定,樣品的離子曝光區域的束流密度均勻。刻蝕面...
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離子束刻蝕工藝:圖形輪廓
圖形輪廓的邊壁斜度可通過選擇束入射角(有時還需旋轉工件臺)來控制。掩膜厚度對束有遮蔽作用。迎面的掩膜會遭到束的直接轟擊,得到脊背形直條溝槽,倘若圖形復雜,不同部位線條走向不同,其遮蔽...
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國內外離子束刻蝕機概況
國內外離子束刻蝕機概況如下表,表10-41給出了離子束刻蝕機主要性能及生產單位。
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真空裝置:合理選擇刻蝕工況
不同的器件要根據不同的要求合理地選擇刻蝕工況,才能保證刻蝕出合格的器件。①對氣體軸承螺旋槽止推板上刻蝕,利用LSK-3型離子束刻蝕機選擇合理的刻蝕工況,實現了不等寬螺旋槽的刻蝕。圖10-46...
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熱真空模擬試驗設備的環境參數
熱真空模擬設備是用于模擬太空的真空環境、外熱流環境及冷黑環境的裝置。模擬室直徑大于2m者,稱之為空間模擬器,用于整星或大型分系統作熱真空試驗。模擬室直徑小于2m者,稱之為熱真空環境模擬...
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大型熱真空模擬設備概述
大型空間環境模擬試驗設備是環境模擬工程中的重要地面試驗設備,由于空間環境十分復雜,不可能在一個設備中全部加以模擬。對于大型空間模擬器,一般應能模擬空間真空、冷黑、太陽電磁輻照、地球...
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空間環境模擬設備概述
地球周圍的大氣層密度是隨高度而變化的,高度越高空氣越稀薄。地球上海平面的大氣壓為1×105Pa,而世界z*高峰珠穆朗瑪峰的頂端大氣壓只有3.2×104Pa,相當于大氣壓的1/3強。發射的人...
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ZM系列熱真空環境試驗設備構成
ZM-800熱真空模擬設備是用于星載儀器作熱真空試驗。其空載真空度為2×10-4Pa,溫度范圍為50℃~-50℃。依據對真空度的要求,選擇擴散泵一機械泵機組作為抽氣手段即可。真空室中,為得到50℃...
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