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HPV型高壓真空氣淬爐主要部件

(1)爐體和爐門爐體爐門的設計主要需解決在高真空與高壓交變工況下，爐體與爐門間的密封，以及在高壓情況下爐體和爐門的強度問題。其次還要考慮爐門開啟、關閉、鎖緊的靈活簡便和安全可靠等問題。為解決這些問題，設...

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HBV-200型高壓真空氣淬爐概述

高壓真空氣淬爐的主要工作過程是：在真空條件下對工件進行加熱以防止工件氧化并脫去工件中的一些有害氣體，使工件的機械性能得以改善。在z*終加熱、保溫結束后，向爐內回充高純度惰性氣體作為冷卻介質，啟動冷卻風扇...

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通常采用的真空排氣方法(一)——單純排氣工藝

單純排氣工藝的方法是，容器從大氣壓、常溫開始用機械泵抽空到15Pa后，再加高真空擴散泵進行抽氣，一直到放氣量降低到允許范圍。這是一種z*簡單、z*普通的獲得高真空的排氣方法。用于低溫容器抽氣效果極差，不僅抽氣...

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通常采用的真空排氣方法(二)——抽空加熱排氣工藝

抽空加熱排氣工藝這是一種普遍用于擴散泵系統獲得超高真空的排氣方法。它與單純排氣工藝不同的是，在抽氣到低真空或高真空時，容器進行加熱除氣。低溫容器的加熱方法可分為內加熱和外加熱及內外全面加熱。其中低真...

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真空滲碳爐的結構

真空滲碳所用的爐子，多半是把以前的油淬火真空爐加以改造而成，其結構如圖10-119所示。在這種爐上，裝上滲碳氣體供給裝置，爐內氣體攪拌裝置以及控制裝置，供真空滲碳處理使用。這便是真空滲碳爐的現狀。

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輝光離子氮化的概述

輝光離子氮化工藝始于20世紀60年代末期，當時的西德和瑞士s*先將此工藝用在槍炮內膛的氮化上，可提高壽命達三倍，后來美國及日本相繼將輝光離子加熱原理用于氮化、燒結、釬焊等方面。我國于20世紀60年代末開始研究，...

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通常采用的真空排氣方法(三)——空氣預加熱排氣工藝

1971年J．W．Snowman指出，容器的加熱應該在抽氣開始前就進行，同年，C．Geyari等人在一種測試多層絕熱的量熱器上進一步實驗了在空氣中先加熱后抽氣的排氣方法01976年在一批液氮生物容器和液氦容器的制作中，對這種工藝...

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氣體熱沖洗和間斷排氣新工藝概述

為了解決常用工藝存在的問題，研究了氣體熱沖洗和間斷排氣新工藝。新工藝的特點是，抽氣前先采用氣體熱沖洗工藝進行預處理。抽氣過程中再采用間斷的排氣方法。氣體熱沖洗的主要目的是，利用易脫附的無害干燥氣體多次...

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輝光離子氮化工作原理

輝光離子氮化一般稱為離子氮化。輝光離子氮化是在真空室內在高壓(一般500V～700V)直流電場作用下進行的。氮化時把待處理的工件接在高壓直流電源的陰極，工件的外圍設置一個接高壓直流電源的陽極。當真空度達到13Pa...

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輝光離子氮化爐結構

離子氮化生產設備簡圖如圖10-120所示。各組件用途簡要說明如下：氣瓶1是氣源，使用氫氮混合氣或單獨使用液態氨都可以。使用氨氣時，可以預先熱分解，也可以直接使用，后者經濟。使用氮氫混合氣時，工作壓力要比單獨使用...

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氣體熱沖洗排氣的作用原理(一)——氣體的置換和脫附作用

容器預抽真空時，將夾層空間內的空氣和材料表面及吸附劑解吸的部分水蒸氣抽出，這時再充進氣體以使空間和材料表面及吸附劑吸附的氣體成分發生變化，隨著充氣次數的增加，空間的空氣成分和材料表面及吸附劑吸附的水蒸...

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氣體的席卷（裹協）作用

充氣的容器預抽真空時，處在湍流、粘滯流和過渡流狀態下運動的分子，因平均自由程短，相互碰撞頻繁，能夠將絕熱層內不易抽出的水蒸氣席卷出來，一起被機械泵排出。溫度越高，氣體分子熱運動速度越快，碰撞越頻繁，席卷作...

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D30型輝光離子氮化爐技術指標

D30型輝光離子氮化爐技術指標見表10-74。

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D30型輝光離子氮化爐結構

圖10-121是離子氮化爐的示意圖。整個裝置由供氨系統、真空系統、測量系統、供電系統四部分組成。①供氨系統。氨氣瓶1內盛有液態氨。工作時將氨氣閥門2打開，經穩壓進入LZB-6型浮子式流量計3。根據真空室要求氨氣壓...

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間斷排氣的作用原理

低溫容器的真空獲得中，抽氣通常都是連續進行的。研究發現，長時間連續抽氣對加速材料放氣過程沒有什么明顯作用。因此，采用了間斷抽氣方法。間斷排氣的主要方法是，在容器內獲得高真空的情況下，尤其是在絕熱層內氣體...